| 加工定制：是 | 品牌：Lieth | 型号：LA200 |
| 用途：曝光光刻 |
上海图双-全自动(对准)光刻设备 & 全自动光刻设备
【国产新机】
该款全自动(对准)光刻设备应用于各类市场需求【如，MEMS、功率器件、化合物半导体、晶圆封装等】
*核心优势：多种工艺适应性：多种对准方式、多类晶圆适应性
*采用UV-LED***光源，提高了光源可获取性且大大降低了成本，性价比极高
*多种曝光模式：具备接近式 / 各类接触式-软接触，硬接触，真空接触
*可适配6/8寸多类晶圆(普通片、透明片、键合片；Notch/Flat)，
*可通过被动楔形补偿技术进行调平
*具备正面、背面对准技术
——可实现极限分辨率0.8μm，对准精度0.5μm，产率可达100WPH；
另、全自动光刻设备，可适配8寸TAIKO工艺片
*核心优势：适配TAIKO特殊工艺需求(最小厚度70μm)；
*具备in-line、SMIF、EAP等工厂自动化接口；
****光源，多种曝光模式，高分辨率，高产能。
*拥有 超薄片测厚与传输、TAIKO片兼容和楔形补偿、曝光间隙在线控制、in-line、EAP、GEM3等多个关键技术
——可实现极限分辨率1.5μm，对准精度0.5μm，产率可达85WPH；
